据科技日报，光刻工夫是推进集成电路芯片制程工艺捏续微缩的中枢驱能源之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳讲授团队及相助者通过冷冻电子断层扫描（cryo-electron tomography，cryo-ET）工夫，初度在原位气象下理解了光刻胶分子在液相环境中的微不雅三维结构、界面散布与缠结手脚，教导开辟出可权臣减少光刻劣势的产业化决议。相干论文近日刊发于《当然-通信》。

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